Chemshunaluminiumoxide wafer polijstplaatDe draaitafel is gemaakt van zeer zuiver aluminiumoxide (99,7-99,9%). Dit keramische materiaal van zeer zuiver aluminiumoxide kenmerkt zich door een uitstekende stijfheid en slijtvastheid voor het polijsten van wafers en behoudt een goede oppervlaktevorm gedurende lange tijd. Het wordt gevormd door PIBM. Het is een gewaardeerd product in de halfgeleiderindustrie vanwege zijn ongeëvenaarde thermische en dimensionale stabiliteit en weerstand tegen de zware omstandigheden van microchipverwerkingsapparatuur.
Chemisch-mechanische planarizatie (CMP), ook wel chemisch-mechanisch polijsten genoemd, is een technologie die wordt gebruikt in het productieproces van halfgeleidercomponenten. Hierbij worden chemische corrosie en mechanische krachten ingezet om siliciumwafers of andere substraatmaterialen tijdens de verwerking af te vlakken.
CMP-apparatuur is hoofdzakelijk verdeeld in twee delen: een polijstgedeelte en een reinigingsgedeelte. Het polijstgedeelte bestaat uit vier onderdelen, namelijk drie polijstdraaitafels en een module voor het laden en lossen van wafers. Het reinigingsgedeelte is verantwoordelijk voor het reinigen en drogen van de wafer, zodat deze "droog in en droog uit" is. Aluminiumoxidekeramiek speelt een belangrijke rol in de gehele polijstapparatuur.
Aluminiumoxidekeramiek wordt doorgaans gebruikt voor de vervaardiging van schijven voor het polijsten van wafers, waarvoor een hoge zuiverheid, hoge chemische bestendigheid en goede controle over de oppervlaktevorm en -ruwheid vereist zijn.
De Chemshun 99,7% Al2O3 keramische slijpschijf is gemaakt van geavanceerde keramische materialen en is geschikt voor het fijnslijpen van diverse materialen, met name breekbare materialen zoals wafers, keramiek en glas. Onze keramische slijpschijven kunnen in verschillende maten worden gemaakt, afhankelijk van het type slijp- en polijstproces.
Geplaatst op: 30 mei 2025